比利時中國學(xué)者和留學(xué)生舉行第三屆學(xué)術(shù)年會

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    新華網(wǎng)布魯塞爾7月11日電(記者王曉郡)比利時中國學(xué)者和留學(xué)生10日在比利時那慕爾市舉辦第三屆學(xué)術(shù)年會。
    本次年會的主題是“科技,挑戰(zhàn)與機(jī)遇”,與會者分別介紹了各自在不同研究領(lǐng)域里取得的最新進(jìn)展,涉及數(shù)學(xué)、化學(xué)、物理、生物等多個方面,為各學(xué)科之間的交叉合作研究提供可能。
    中國駐比利時大使廖力強(qiáng)在年會致詞中回顧了中國經(jīng)濟(jì)近年來的迅猛發(fā)展和對世界經(jīng)濟(jì)的貢獻(xiàn),并介紹了今后5年中國科技發(fā)展目標(biāo)。他稱贊旅比2000多名留學(xué)人員的學(xué)術(shù)水平和愛國熱情,對被推薦的16名旅比自費留學(xué)生獲頒2010年“國家優(yōu)秀自費留學(xué)生獎學(xué)金”表示祝賀。
    中國學(xué)者和留學(xué)生那慕爾學(xué)術(shù)研討會2009年首次舉辦,現(xiàn)已成為一個學(xué)習(xí)及學(xué)術(shù)研究交流的平臺。本次年會的參加人員不僅有來自比利時部分大學(xué)的學(xué)者和留學(xué)生,還有來自英國和中國一些大學(xué)的教授以及歐美知名公司的高級研究人員等。